柵極驅(qū)動器如何實現(xiàn)寬范圍的電池電壓
出處:維庫電子市場網(wǎng) 發(fā)布于:2023-02-08 16:15:42
本文討論了在單個驅(qū)動器設(shè)計中嘗試適應(yīng)寬范圍電池電壓和電機功率時遇到的這些挑戰(zhàn),并提供了一個商用解決方案作為設(shè)計研究。
為了驅(qū)動高電壓、高功率應(yīng)用的電機或驅(qū)動器,其中低噪聲和高效率是關(guān)鍵的設(shè)計因素,持續(xù)的設(shè)計趨勢是使用永磁同步電機 (PMSM) 驅(qū)動器和/或無刷直流 (BLDC) 驅(qū)動器. 對于許多其他應(yīng)用,例如機械處理的噪聲通常會蓋過電機噪聲的應(yīng)用,可以使用簡單的半橋架構(gòu)驅(qū)動的簡單直流電機仍然足夠。
然而,在寬功率范圍內(nèi)運行電機/驅(qū)動器會導(dǎo)致功耗和開關(guān)效應(yīng),這對三相驅(qū)動器和直流驅(qū)動器都構(gòu)成了重大挑戰(zhàn),因此此處的考慮對兩者都有效。
高壓大功率直流電機運轉(zhuǎn)
運行直流電機似乎是一項簡單的任務(wù)。然而,它仍然存在挑戰(zhàn),包括需要維持高壓運行以支持在制動時耗散電機電感能量。為了在驅(qū)動級必須適用于寬功率范圍的應(yīng)用中應(yīng)對這一挑戰(zhàn),設(shè)計人員需要能夠同時支持高壓操作和處理巨大負瞬變的解決方案。
寬范圍電源解決方案還需要能夠為中功率到高功率 MOSFET 驅(qū)動寬范圍的柵極電流,這會在器件內(nèi)部引入高功率耗散。為了應(yīng)對這一功耗挑戰(zhàn),設(shè)計人員可能會在具有低驅(qū)動阻抗的驅(qū)動器中找到解決方案。
首先,驅(qū)動 MOSFET 需要了解 MOSFET 開關(guān)波形,下面將對此進行討論。
了解 MOSFET 開關(guān)行為
對于電機等感性負載,開關(guān)周期可分為四個階段:
t 0到t 1 → 柵極電壓上升到閾值電壓。
t 1至 t 2 → 漏極電流 (i D ) 上升,柵極電壓根據(jù) MOSFET 的跨導(dǎo)上升。
漏源電壓 (V DS ) 下降 - 非線性下降,因為輸入電容 (C ISS )、輸出電容 (C OSS ) 和反向傳輸電容 (C RSS ) 取決于 V DS - 并且柵極電流為米勒充電電容(V GS),在此期間,V GS是穩(wěn)定的。
t 3至 t 4 → V DS飽和低,V GS上升至其終值。
第 1 階段開始時的柵極至源極電壓 (V GS(t) ) 為零,驅(qū)動器需要提供的柵極驅(qū)動電流 (i G(t) ) 處于峰值??傞_關(guān)時間(t 0到t 4 )不需要這個驅(qū)動強度,因為柵極電容被連續(xù)充電。
近似地,典型的開啟時間可以通過以下方式獲得:
t r(HS) = C負載× R DS(on)UP
在哪里:
t r(HS)是從t 0到t 4的時間,
C LOAD表示 MOSFET 的柵極電容,并且
R DS(on)UP是上拉電阻。
通常,為了保持較低的功率預(yù)算,需要快速切換。另一方面,在大多數(shù)情況下,需要限制柵極驅(qū)動電流以控制開關(guān)速度 dV/dt,以滿足電磁兼容性 (EMC) 要求。
通過添加?xùn)艠O電阻器 (R GATE ),可以延長導(dǎo)通時間,具體如下:
t r(HS) = C LOAD × (R DS(on)UP + R Gate )
增加?xùn)艠O電阻時需要權(quán)衡多種影響。增加?xùn)艠O電阻將:
增加開關(guān)損耗,導(dǎo)致圖 1 中淺紅色區(qū)域的增加。
降低柵極驅(qū)動器對驅(qū)動功率的需求。這種效果通常是理想的,因為它會減少驅(qū)動器本身的功耗,從而產(chǎn)生較少的熱量。權(quán)衡是為 MOSFET 的總柵極電容充電需要更長的時間,并且柵極電阻器上耗散的功率會增加,這意味著更高的電壓降會持續(xù)更長的時間。換句話說,功率損耗從驅(qū)動器轉(zhuǎn)移到柵極電阻器。
增加死區(qū)時間。
需要找到折衷方案來考慮所有這些影響。
了解 MOSFET 快速開關(guān)和米勒效應(yīng)
除了上面討論的 MOSFET 開關(guān)行為和權(quán)衡之外,快速開關(guān)會導(dǎo)致已知米勒效應(yīng)的另一種表現(xiàn),在設(shè)計中必須考慮到這一點。米勒效應(yīng)可導(dǎo)致由柵極浪涌電流引起的感應(yīng) V GS反彈,根據(jù):
I G = C GD × dV DS /dt
該名稱源于 MOSFET 的柵漏電容,也稱為米勒電容。
為了說明米勒效應(yīng),半橋中的所有 MOSFET 容量如圖 2所示。輸入電容 (C ISS )、輸出電容 (C OSS ) 和反向傳輸電容 (C RSS )——通常在 MOSFET 數(shù)據(jù)表中指示的值——與柵漏電容 (C GS )、柵極相關(guān)源極電容 (C GS ) 和漏源電容 (C DS ) 如下:
C ISS = C GD + C GS
C OSS = C DS + C GD
C RSS = C GD
這些關(guān)系可以重寫為:
C GD = C RSS(C GD = 米勒電容)
C GS = C ISS – C RSS
C DS = C OSS – C RSS
圖 3顯示了高側(cè)和低側(cè)的理想柵極驅(qū)動信號示例,具有足夠的死區(qū)時間和在 S 節(jié)點監(jiān)測的電機電壓。與此理想情況相反,在實踐中可能會觀察到高側(cè)和低側(cè)柵極電壓,如圖 4所示。理想和實際之間的差異可以通過開關(guān)行為來解釋。
圖 3該圖顯示了隨時間變化的低側(cè) (LS) 柵極電壓、高側(cè) (HS) 柵極電壓和電機電壓。資料 Microsystems
當開啟高側(cè)柵極時,S 節(jié)點的快速 dV/dt 瞬變導(dǎo)致低側(cè)柵極電壓米勒電容 (C GD ) 重新充電,將低側(cè) MOSFET 的 V GS拉至高于低側(cè)柵極閾值電壓 (V GS(th) )。這會導(dǎo)致交叉?zhèn)鲗?dǎo),導(dǎo)致 S 節(jié)點振蕩和大量功率損耗。與高側(cè) MOSFET 柵極電阻相比,減小低側(cè) MOSFET 柵極電阻并在 S 節(jié)點上使用足夠的緩沖器可以減輕這種影響。通過添加一個與高側(cè)柵極電容并聯(lián)的額外陶瓷電容器可以實現(xiàn)顯著改善,這將降低 dV/dt。
利用 MOSFET 容量避免米勒效應(yīng)
這是一個設(shè)計研究,用于避免米勒效應(yīng),同時使用 APEK89500 演示板來評估A89500半橋 MOSFET 驅(qū)動器。A89500 快速開關(guān)半橋 MOSFET 驅(qū)動器旨在支持高壓操作——例如,高側(cè)和低側(cè)總計 2.7 A 源電流(典型值)和 5.2 A 灌電流(典型值)。如圖 5所示,它可擴展至 100 V 橋式電源并在高側(cè)柵極輸出端子和高側(cè)源極(負載)端子處處理高達 –18 V 的瞬變。
A89500 采用雙扁平無引線 (DFN) 封裝,具有非常低的封裝熱阻結(jié)至環(huán)境 (R ?JA ) — 雙層 3.8 × 3.8 英寸 PCB 為 38°C/W。為了幫助設(shè)計人員了解驅(qū)動強度,驅(qū)動器需要在開關(guān)周期的t 0到 t 4的所有階段供電。本文中使用的直接連接到驅(qū)動器的電容器充電時間的近似值也用在數(shù)據(jù)表中,如表 1所示。
專為評估 A89500 驅(qū)動器而設(shè)計的 APEK89500 演示板演示了 A89500 避免米勒效應(yīng)并實現(xiàn)低噪聲、高效率運行的能力。該板部署了兩個帶有電容的 MOSFET,如表 2所示。
APEK89500 演示板未針對設(shè)計目標的參考設(shè)計進行優(yōu)化。這種故意缺乏優(yōu)化導(dǎo)致易受米勒效應(yīng)影響。盡管缺少針對設(shè)計目標的參考設(shè)計,但可以通過添加與高側(cè)柵極電容 C GS并聯(lián)的 1 nF 電容器來完全消除米勒效應(yīng)。C GD /C GS比率的降低示于表3中。在實施使用 A89500 的設(shè)計時,完全避免米勒效應(yīng)的一個好方法是保持相似的減速比。
如本設(shè)計用例所示,添加一個與高側(cè)柵極電容 C GS并聯(lián)的電容器將導(dǎo)致 S 節(jié)點處的 dV/dt 降低,從而減輕米勒效應(yīng)。也可以通過降低低側(cè)的 C GD /C GS比率來利用這一結(jié)果——例如,通過添加與低側(cè)柵極電容并聯(lián)的電容器。當將 C GD和 C GS視為分壓器時,這種方法變得更加全面(圖 6)。因此,當增加 C GS時,表觀柵極到源極阻抗變小,這進一步支持將柵極保持在遠低于 V GS(th)的努力。
當然,可以通過使用適合設(shè)計的 MOSFET 來獲得適當?shù)?C GD /C GS比率。避免低側(cè)電容性開關(guān)的其他措施包括使用低側(cè) MOSFET 柵極電阻器(與高側(cè) MOSFET 柵極電阻器相比有所降低)和 S 節(jié)點上的緩沖器以減輕交叉?zhèn)鲗?dǎo)的影響。
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