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請(qǐng)教:辦個(gè)晶閘管廠,最少要多少投資?

作者:droum 欄目:IC產(chǎn)業(yè)
請(qǐng)教:辦個(gè)晶閘管廠,最少要多少投資?
最貴的是哪幾個(gè)設(shè)備?

2樓: >>參與討論
droum
兩天沒(méi)人答
是因?yàn)槔习鍌儧](méi)空上網(wǎng),還是害怕多一個(gè)競(jìng)爭(zhēng)者?

3樓: >>參與討論
droum
網(wǎng)上查到這么一條消息,說(shuō)是至少要200萬(wàn):

電力半導(dǎo)體器件的研制與開發(fā)

    項(xiàng)目負(fù)責(zé)人  關(guān)艷俠
    項(xiàng)目簡(jiǎn)介  
    適用于各種變流技術(shù)、節(jié)能技術(shù)、控制技術(shù)裝置中的核心元器件,在機(jī)械,冶金、化工、電力、電子、交通、節(jié)能、安全保護(hù)、石油、煤炭采礦中,有廣泛的應(yīng)用。
    主要特點(diǎn)及技術(shù)指標(biāo)、技術(shù)水平
    是50年代后迅速發(fā)展起來(lái)的技術(shù)含量高的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。
    其技術(shù)指標(biāo)和技術(shù)水平,能完全滿足當(dāng)前國(guó)內(nèi)的需求,共有三個(gè)系統(tǒng):
    ①不控系列ZP.1—1000A/500—3000A  整流器件系列。
    ②半控制KP.1—1500A/500—2500V  可控硅器件系列。
    ③半控KK.100—800A/800—1800V  快速晶閘管系列。
    ④半控KS.100—500A/800—1600V雙向晶閘管系列。
    市場(chǎng)預(yù)測(cè)、效益分析  
    該產(chǎn)業(yè)年全國(guó)可達(dá)到23億元,遼寧省可達(dá)到1.7億元,今年初又有上升。
    成本及售價(jià)  
    以1500A/1800V為例,成本在120元—180元/支,售價(jià)國(guó)家定價(jià)430元,私售價(jià)300元/支左右。
    實(shí)施條件及投資概算  
    需要一個(gè)生產(chǎn)線和一套檢測(cè)設(shè)備,還需凈化裝置,按生產(chǎn)規(guī)模,投資可在200萬(wàn)—1000萬(wàn)(現(xiàn)在遼寧省已有若干家,因技術(shù)和管理問(wèn)題不能維持而下馬,可在這些基礎(chǔ)上,加以調(diào)整,不投資或少投資)。
    服務(wù)內(nèi)容等  
    ①可以承包1個(gè)生產(chǎn)線;
    ②全面技術(shù)咨詢;
    ③包銷部分產(chǎn)品。

[ 本版服務(wù)咨詢電話:0412-2212349] 

4樓: >>參與討論
droum
又找到如下消息
  1986年,青島電器元件廠與意大利IR公司簽訂了引進(jìn)可控硅制造技術(shù)、設(shè)備合同,配套人民幣投資50萬(wàn)元。年底,為引進(jìn)技術(shù)而新建的3600平方米超凈生產(chǎn)線大樓竣工。為確保引進(jìn)項(xiàng)目在1988年投產(chǎn),各項(xiàng)引進(jìn)工作陸續(xù)展開。

5樓: >>參與討論
droum
網(wǎng)上查到半導(dǎo)體工藝主要設(shè)備大全:
清洗機(jī)
純水機(jī)
凈化設(shè)備
拋光機(jī)
光刻機(jī)
刻蝕機(jī)
去膠機(jī)
擴(kuò)散爐
PECVD
LPCVD
濺射臺(tái)
真空烘箱
劃片機(jī)
成像系統(tǒng)
氣體過(guò)濾器
液體過(guò)濾器
擴(kuò)散片
曝光機(jī)
勻膠機(jī)/甩膠機(jī)
烘膠臺(tái)
封裝設(shè)備

哪些是必須的?
要多少錢?

6樓: >>參與討論
frogan
路過(guò)的
我是路過(guò)的,弱弱的問(wèn)一聲晶閘管是做什么用的?

7樓: >>參與討論
pcbwang
至少需要上千萬(wàn)才能開這樣的廠.......
 
8樓: >>參與討論
pcbwang
就一臺(tái)濺射臺(tái)就需要200多萬(wàn)......
還有離子植入機(jī),擴(kuò)散機(jī)...........

9樓: >>參與討論
droum
肯定有二三十萬(wàn)元的濺射臺(tái),根據(jù)是查到的如下信息:
軟基體熱敏電阻(傳感器)

   項(xiàng)目簡(jiǎn)介  該元件用于測(cè)溫,由于基底為軟基底所以可方便的粘巾于被測(cè)物體的表面,特別是那些表面不規(guī)則場(chǎng)所測(cè)溫。另外由于整個(gè)芯片厚度不大于1mm所以特別適用于狹縫處溫度的測(cè)量。
    主要特點(diǎn)及技術(shù)指標(biāo)、技術(shù)水平
    主要指標(biāo):基底為軟基底可適當(dāng)彎曲,芯片很薄整個(gè)厚度不大于1mm故很適于不規(guī)則平面的狹縫外測(cè)溫。
    技術(shù)指標(biāo):技術(shù)水平;測(cè)溫范圍-50℃—200℃,元件阻值100Ω,500Ω,溫度系數(shù)4×10-3/℃。
    市場(chǎng)預(yù)測(cè)、效益分析  
    據(jù)測(cè)算全國(guó)石油化工、紡織、電力、電子、機(jī)械等行業(yè),每年需要百萬(wàn)支,按每支2—3元計(jì)算,則每臺(tái)年產(chǎn)值達(dá)幾百萬(wàn)元,該元件成本很低,遠(yuǎn)低于鉑熱電阻,故利潤(rùn)可觀,再考慮到社會(huì)效益更可觀。
    成本及售價(jià)  
    2—5元/支。
    實(shí)施條件及投資概算  
    光刻機(jī),真空熱處理爐,濺射臺(tái),調(diào)阻設(shè)備,全部購(gòu)買新的約50萬(wàn)元,恒溫?zé)釄?chǎng)。
    服務(wù)內(nèi)容  
    工藝過(guò)程、工藝條件、測(cè)試條件。






10樓: >>參與討論
pcbwang
還需要買毒氣,毒水,加上污水處理費(fèi).....
環(huán)保費(fèi), 人工費(fèi). 成本費(fèi). 流動(dòng)資金.....
不光是買幾臺(tái)死機(jī)器就能生產(chǎn)的哈.  

沒(méi)有上千萬(wàn)能成嘛?

11樓: >>參與討論
droum
.
在基本同等的技術(shù)水平下,國(guó)產(chǎn)設(shè)備價(jià)格一般只有進(jìn)口設(shè)備的1/10-1/3

12樓: >>參與討論
droum
即使如此,
大量?jī)r(jià)格低廉的國(guó)外二手設(shè)備涌入我國(guó),也給國(guó)產(chǎn)設(shè)備造成了極大的市場(chǎng)壓力,它們搶奪了大部分的市場(chǎng)份額,同時(shí)也極大地縮小了國(guó)產(chǎn)設(shè)備的利潤(rùn)空間。
也就是說(shuō),他們比本來(lái)就已便宜己倍的國(guó)貨還便宜。

13樓: >>參與討論
droum
轉(zhuǎn)帖
2007-1-26 17:27 chynaie
光刻技術(shù)是集成電路的關(guān)鍵技術(shù)之一

  在整個(gè)產(chǎn)品制造中是重要的經(jīng)濟(jì)影響因子,光刻成本占據(jù)了整個(gè)制造成本的35%

  光刻也是決定了集成電路按照摩爾定律發(fā)展的一個(gè)重要原因,如果沒(méi)有光刻技術(shù)的
  進(jìn)步,集成電路就不可能從微米進(jìn)入深亞微米再進(jìn)入納米時(shí)代。
所以說(shuō)光刻系統(tǒng)的先進(jìn)程度也就決定了光刻工程的高低,

光刻系統(tǒng)的組成:

    光刻機(jī)(曝光工具) (光刻工程的核心部分,其造價(jià)昂貴.號(hào)稱世界上最精密的儀      器,目前世界是已有7000萬(wàn)美金的光刻機(jī).)

    掩膜版
    光刻膠(常伴隨著光刻機(jī)的發(fā)展而前進(jìn).在一定程度上其也制約著光刻工藝的發(fā)展)

主要指標(biāo):

    分辨率W(resolution)-> 光刻系統(tǒng)所能分辨和加工的最小線條尺寸
    焦深(DOF-Depth Of Focus) -> 投影光學(xué)系統(tǒng)可清晰成象的尺度范圍
    關(guān)鍵尺寸(CD-Critical Dimension)控制
    對(duì)準(zhǔn)和套刻精度(Alignment and Overlay)
    產(chǎn)率(Throughout)
    價(jià)格

其中,W是決定光刻系統(tǒng)最重要的指標(biāo),也是決定芯片最小特征尺寸的原因。
其由瑞利定律決定: R = k1r/NA , 其中 r 是光刻波的波長(zhǎng)。

提高光刻分辨率的途徑:

    減小波長(zhǎng)r, 其中, 光刻加工極限值:r/2 , 即半波長(zhǎng)的分辨率
    增加數(shù)值孔徑
    優(yōu)化系統(tǒng)設(shè)計(jì)(分辨率增強(qiáng)技術(shù))
    減小k1

主流光刻技術(shù):
248nm DUV技術(shù)(KrF準(zhǔn)分子激光) -> 0.10um 特征尺寸
193nm DUV技術(shù)(ArF準(zhǔn)分子激光) -> 90nm 特征尺寸

新一代的替代光刻技術(shù):
Immersion 193nm技術(shù)
157nm F2
EUV光刻 紫外線光刻
電子束投影光刻
X射線光刻
離子束光刻
納米印制光刻

光學(xué)透鏡
    透射式透鏡(248nm、193nm)
    反射式透鏡(157nm)

掩膜版
    由透光的襯底材料(石英玻璃)和不透光金屬吸收層材料(主要是金屬Cr)組成。
    通常要在表面淀積一層抗深紫外光損傷的增光型保護(hù)涂層

分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET):
     Step-Scan 技術(shù)
     偏軸照明(OAI)
     鄰近效應(yīng)校正(OPC)
     移相掩膜(PSM)
     具有化學(xué)增強(qiáng)放大功能的快速感光光刻膠
     光刻膠修剪(Resist Trimming)
     抗反射功能和表面感光后的多層光刻膠

14樓: >>參與討論
droum
能否把光刻濺射切割封裝等部分工序給別人做,
自己掌握擴(kuò)散之類,以保守關(guān)鍵技術(shù)訣竅,并減少投資?

15樓: >>參與討論
droum
!
在半導(dǎo)體二手設(shè)備-中國(guó)市場(chǎng)研討會(huì)上,國(guó)內(nèi)一些設(shè)備翻新公司表示,經(jīng)過(guò)他們翻新的二手半導(dǎo)體設(shè)備價(jià)格可以達(dá)到新設(shè)備的三分之一,其中二手設(shè)備采購(gòu)成本大約是10%~20%,更換零部件和人工翻新的利潤(rùn)是10%~20%。并且國(guó)內(nèi)的設(shè)備翻新公司可以提供更好的售后服務(wù)。設(shè)備投資低且實(shí)用,使芯片具有了較強(qiáng)的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。


16樓: >>參與討論
droum
!
Bid Service公司把有價(jià)值的半導(dǎo)體設(shè)備拍成照片,并定期出版導(dǎo)購(gòu)手冊(cè),客戶可以根據(jù)手冊(cè)上的信息親自到現(xiàn)場(chǎng)選購(gòu)。此類設(shè)備的價(jià)格通常都非常便宜,例如5萬(wàn)美元就可以買到一臺(tái)濺射臺(tái),而同樣的新設(shè)備則需要300萬(wàn)美元。

17樓: >>參與討論
pcbwang
樓主去開一個(gè)呀. 期待中.......
祝發(fā)達(dá)..

18樓: >>參與討論
droum
我已問(wèn)清楚了
最少230萬(wàn)
不過(guò)即使如此我還差距太遠(yuǎn)。
目前正聯(lián)系承包看看

19樓: >>參與討論
pcbwang
繼續(xù)努力奮斗....,期待中....
 
20樓: >>參與討論
mcuplayer
極度佩服樓主的資訊查找能力
 
21樓: >>參與討論
droum
前幾天我參觀電子展,提了類似問(wèn)題.
得到的建議是從封裝做起.
買些封裝設(shè)備,把從芯片供應(yīng)商那里買來(lái)的芯片,封裝成元件出售.
很多半導(dǎo)體廠就是這樣起家的.

22樓: >>參與討論
highway
樓主是強(qiáng)人,是老師嗎?
希望能看到好的國(guó)產(chǎn)器件,有機(jī)會(huì)聯(lián)系下:)

23樓: >>參與討論
張瑋

我就是生產(chǎn)晶閘管可控硅的企業(yè),不需要那么多的錢,最多30萬(wàn)就夠了,也許還不要呢,有些設(shè)備可以不用買的,我們都自己做的,便宜實(shí)惠,我qq779550671

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