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基于化纖高速卷繞機(jī)的錠軸傳動(dòng)控制技術(shù)研究實(shí)現(xiàn)
過(guò)程控制，使錠軸轉(zhuǎn)速符合式（4）所描述的目標(biāo)函數(shù)。插人cp474cpu 主模塊cp 插槽的if311 模塊，具有rs232 接口的功能，用于連接hitech pws 一700tstn型觸摸屏，以進(jìn)行功能選擇、參數(shù)設(shè)定、狀態(tài)指示等有關(guān)鍵盤(pán)操作和信息顯示。一旦完成設(shè)置任務(wù)，觸摸屏亦可處于脫機(jī)狀態(tài)。圖3 錠軸傳動(dòng)卷繞機(jī)的pcc 控制系統(tǒng)硬件結(jié)構(gòu)框圖 4.2 pcc 控制系統(tǒng)的軟件設(shè)計(jì) 圖3 所示的錠軸傳動(dòng)卷繞機(jī)pcc 控制系統(tǒng)的軟件部分主要采用b&r2003pcc系列編程軟件包pg200所提供的pl2000高級(jí)語(yǔ)言和hitech pws 編程軟件包adp3進(jìn)行程序設(shè)計(jì)。整個(gè)系統(tǒng)的應(yīng)用軟件可分為若干個(gè)模塊，其中的特色部分是錠軸傳動(dòng)卷繞機(jī)運(yùn)行前的數(shù)據(jù)準(zhǔn)備處理程序模塊和錠軸傳動(dòng)卷繞機(jī)運(yùn)行后的過(guò)程控制處理程序模塊。圖4 所示的為數(shù)據(jù)準(zhǔn)備處理程序流程圖，它可按化纖卷繞生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的v、a 、g 、p 、h 、do以及卷裝滿筒外徑d 等工藝參數(shù)和機(jī)械參數(shù)，在cp474cpu 主模塊的存儲(chǔ)器中按式（2）和式（4）建立有關(guān)中間變量、參照式（4）建立錠軸轉(zhuǎn)速的初始設(shè)定值n 、參照式（3）建立
大尺寸硅片背面磨削技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展
．實(shí)現(xiàn)背面減薄工藝集成為減少硅片的搬運(yùn)和夾持次數(shù)，以提高加工效率和降低碎片率，先進(jìn)的硅片背面磨床采用多主軸轉(zhuǎn)位工作臺(tái)結(jié)構(gòu)，在同一機(jī)臺(tái)上裝夾一次硅片即可實(shí)現(xiàn)粗磨和精磨；超精密進(jìn)給機(jī)構(gòu)和定位機(jī)構(gòu)以控制微小磨削深度；為保證硅片的平整度，具有主軸角度自動(dòng)調(diào)整裝置；為有效控制硅片厚度，裝有在線厚度測(cè)量裝置；此外還配有干進(jìn)干出，(dry-in dry-out)的清洗和烘干系統(tǒng)以及自動(dòng)裝卸硅片的機(jī)械手等。近幾年日本一些公司還開(kāi)發(fā)了集硅片背面磨削與cmp或干式拋光為一體的磨拋機(jī)床。東京精密公司生產(chǎn)的pg300／pg200系列磨床硅片在同一機(jī)臺(tái)上只需裝夾一次便可實(shí)現(xiàn)粗磨、精磨和拋光，這到迅速減薄和去除損傷層和殘余應(yīng)力的目的。本文摘自《國(guó)際電子設(shè)備》來(lái)源:零八我的愛(ài)

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